Omega/Theta XRD Mapping面掃(sao)功(gong)能

Omega/Theta XRD Mapping面掃(sao)功能掃臺允許使用受控的網格模式來探索整個樣品表面。Omega/Theta XRD可以(yi)很容易地(di)在轉盤(pan)頂部(bu)容納額外(wai)的XY定(ding)位平臺。樣品表面(mian)可以(yi)根據用戶(hu)定(ding)義(yi)的網格(ge)進(jin)行掃描(miao)。由于樣品上X射線光斑(ban)的大(da)小(xiao)(xiao)，小(xiao)(xiao)的網格(ge)間距約為1毫(hao)米(mi)。

繪(hui)圖階段可以(yi)與Omega掃描結(jie)合(he)起來，以(yi)獲得晶體方向圖，或與搖(yao)擺曲(qu)線(xian)測量結(jie)合(he)起來，以(yi)獲得表面的(de)扭曲(qu)圖。可提供用于(yu)顯示和分析的(de)軟件包。

Omega/Theta XRD Mapping面掃功能

是診斷晶體生長過(guo)程中和制造過(guo)程中出現(xian)的質量問題(ti)的一(yi)個寶貴工具

即使在(zai)單晶(jing)中(zhong)，晶(jing)體(ti)取向(xiang)也可以在(zai)表面上表現(xian)出微(wei)小的變化，這是由晶(jing)格缺陷引起的內(nei)部(bu)應變造(zao)成的。有序生(sheng)長的薄膜也可以有一個有趣(qu)的面內(nei)取向(xiang)分布。

繪制(zhi)一個表面需要大量(liang)的(de)測(ce)量(liang)。在(zai)這里，歐(ou)米茄(qie)掃描(miao)方法可(ke)以提供其速度方面的(de)優勢(shi)。圖中顯示(shi)的(de)是在(zai)一個（Si，Ge）固溶體(ti)晶片上測(ce)量(liang)的(de)取向圖。較大的(de)方向差是0.03°。同心圓(yuan)是按照晶體(ti)的(de)生長環(huan)進(jin)行的(de)。